КНР активно инвестирует в полупроводниковую промышленность и переходит к локализации критически важных технологий. Помимо оборудования для производства чипов по нормам «28 нм», в Китае уже изготовлен прототип литографической установки EUV (техпроцессы «5 нм» и менее), который позволит начать выпуск функциональных чипов не позднее 2030 г.

Сообщение Китайское микропроцессорное машиностроение набирает обороты появились сначала на Byte/RE.

Даже в условиях дефицита выпускать готовые микросхемы не удается быстрее в том числе потому, что в современных фотолитографах жестко задана мощность источника EUV-излучения, и это не позволяет ускорить экспонирование светочувствительного слоя на кремниевой пластине. Однако предложенная ASML модификация, возможно, позволит нарастить мощность излучателей на серийных устройствах.

Сообщение Больше чипов? У ASML есть решение появились сначала на Byte/RE.

На тайваньскую компанию по итогам III квартала пришлось более 70% мирового рынка контрактного производства микросхем, и ее экспансию сдерживает сейчас в основном нехватка собственных производственных мощностей. А до конца 2025 г. TSMC намерена начать тестовое предсерийное производство микросхем по нормам «1,4 нм», причем на станках EUV первого поколения.

Сообщение TSMC увеличивает отрыв появились сначала на Byte/RE.

Сообщение Кому два нанометра мелки, а кому – восемь редки появились сначала на Byte/RE.

Отставание китайских производителей в полупроводниковой отрасли связано с тем, что из-за санкций они не могут применять EUV-литографы (излучение с длиной волны 13,5 нм) от ASML, на которых выпускаются чипы по нормам «7 нм» и менее. Но недавно появились сведения о разработке в КНР источника экстремального УФ-излучения с длиной волны около 6,7 нм, действующего по иному принципу.

Сообщение В Китае готовы к EUV? появились сначала на Byte/RE.

Сообщение Отказ от поставок в КНР создал сложности ASML появились сначала на Byte/RE.

Политическое решение американских властей затормозить ИТ-прогресс материкового Китая вошло в серьезное противоречие с интересами изготовителей чипмейкерского оборудования как из самих США, так и из союзных им стран. Так, по данным за II кв. 2024 г., заказы из КНР обеспечивают им до половины выручки, и это еще не самое передовое оборудование для выпуска полупроводников.

Сообщение Китайский чипмейкинг набирает обороты появились сначала на Byte/RE.

В условиях, когда ограничения на поставки в материковый Китай как самих передовых ИТ-продуктов, так и фотолитографических машин для их производства становятся все более жесткими, в КНР находят способы преодолевать искусственно навязываемое ей отставание. В результате две ветви развития мировой ИТ-отрасли – китайская и американоцентричная – все сильнее будут расходиться друг с другом.

Сообщение Идеология как движущая сила ИТ-распараллеливания появились сначала на Byte/RE.

Фотолитографы HNA EUV, пригодные для производства СБИС по технологическим нормам ниже условного предела в 1 нм, способна создавать исключительно голландская ASML. Уже сейчас цена на эти – ожидаемые в лучшем случае к 2030 г. и даже толком не разработанные – устройства получается запредельной, речь идет по меньшей мере о 724 млн долл. за одну установку.

Сообщение Цена прогресса начинает зашкаливать появились сначала на Byte/RE.

Китайский чипмейкер SMIC готов к массовому производству микросхем по технологическим нормам 5 нм – на доработанном DUV-оборудовании, без фотолитографических машин новейшего поколения EUV, которые выпускаются исключительно голландской ASML и запрещены к импорту в материковый Китай.

Сообщение Китай осваивает 5-нм техпроцесс без EUV появились сначала на Byte/RE.

Доля выхода годных 3-нм чипов у тайваньской TSMC уже больше 60%, однако себестоимость продукта вдвое выше, чем при использовании 4-нм техпроцесса, для которого доля выхода годных микросхем – около 80% (а у прямого конкурента, Samsung Electronics, – 75%). Неудивительно, что именно с расчетом на 4-нм производственные нормы разрабатывают сегодня перспективные процессоры ведущие вендоры.

Сообщение Будет ли меньше нанометров: 4-нм техпроцесс пока выгоднее 3 нм появились сначала на Byte/RE.

Разработчик наноимпринтной технологии компания Canon начинает серийный выпуск литографических машин – альтернативных изделиям голландской ASML – с фактическим разрешением 14 нм, что соответствует фотолитографическому процессу 5 нм.

Сообщение Еще один подход к полупроводниковой литографии – наноимпринтный появились сначала на Byte/RE.

В условиях, когда поставки современных фотолитографических машин в КНР фактически запрещены, в стране активизировались разработки новых способов получения высокоэнергичных фотонов для полупроводниковой фотолитографии, включая использование специализированного синхротрона.

Сообщение Синхротрон вместо литографа: Китай поставит на SSMB? появились сначала на Byte/RE.