КНР активно инвестирует в полупроводниковую промышленность и переходит к локализации критически важных технологий. Помимо оборудования для производства чипов по нормам «28 нм», в Китае уже изготовлен прототип литографической установки EUV (техпроцессы «5 нм» и менее), который позволит начать выпуск функциональных чипов не позднее 2030 г.

Сообщение Китайское микропроцессорное машиностроение набирает обороты появились сначала на Byte/RE.

Даже в условиях дефицита выпускать готовые микросхемы не удается быстрее в том числе потому, что в современных фотолитографах жестко задана мощность источника EUV-излучения, и это не позволяет ускорить экспонирование светочувствительного слоя на кремниевой пластине. Однако предложенная ASML модификация, возможно, позволит нарастить мощность излучателей на серийных устройствах.

Сообщение Больше чипов? У ASML есть решение появились сначала на Byte/RE.

Сообщение Успехи китайской полупроводниковой индустрии появились сначала на Byte/RE.

На тайваньскую компанию по итогам III квартала пришлось более 70% мирового рынка контрактного производства микросхем, и ее экспансию сдерживает сейчас в основном нехватка собственных производственных мощностей. А до конца 2025 г. TSMC намерена начать тестовое предсерийное производство микросхем по нормам «1,4 нм», причем на станках EUV первого поколения.

Сообщение TSMC увеличивает отрыв появились сначала на Byte/RE.

Сообщение TSMC – по-прежнему лидер, но расслабляться нельзя появились сначала на Byte/RE.

Сообщение Китайская микроэлектронная отрасль: путь к лидерству появились сначала на Byte/RE.

Согласно планам компании, уже в конце 2025 г. должен был начаться серийный крупномасштабный выпуск микросхем по техпроцессу «Intel 18A» (аналог «2 нм» у TSMC). Однако пока спрос внешних заказчиков на такие процессоры не слишком велик – что означает снижение выручки от контрактных производств и почти наверняка сдвиг сроков запуска в серию более миниатюрных технологических норм.

Сообщение Intel проигрывает «битву при двух нанометрах» появились сначала на Byte/RE.

До недавнего времени полупроводниковое производство в мире концентрировалось в нескольких кластерах: Тайвань, Япония, Южная Корея, в меньшей степени США и КНР. Но теперь, учитывая стремление множества стран, начиная с тех же КНР и США, локализовать в своих границах ключевые производства, темпы роста продаж оборудования для них заметно опережают общую динамику ИТ-рынка.

Сообщение Расцвет полупроводниковой индустрии как признак конца ИТ-глобализации появились сначала на Byte/RE.

Отставание китайских производителей в полупроводниковой отрасли связано с тем, что из-за санкций они не могут применять EUV-литографы (излучение с длиной волны 13,5 нм) от ASML, на которых выпускаются чипы по нормам «7 нм» и менее. Но недавно появились сведения о разработке в КНР источника экстремального УФ-излучения с длиной волны около 6,7 нм, действующего по иному принципу.

Сообщение В Китае готовы к EUV? появились сначала на Byte/RE.

Компания TSMC объявила, что готова запустить массовое серийное производство микросхем по технологическим нормам А16 уже к концу 2026 г. В этом техпроцессе использована фирменная разработка TSMC – сеть электропитания Super Power Rail backside power delivery network, в которой транзисторы получают питание по шинам, расположенным с обратной стороны кремниевой подложки.

Сообщение Производство по нормам А16 – через два года появились сначала на Byte/RE.

Сообщение Отказ от поставок в КНР создал сложности ASML появились сначала на Byte/RE.

Согласно прогнозу Всемирной ассоциации полупроводниковой индустрии (SEMI), продажи устройств для изготовления микросхем по итогам 2024 г. вырастут на 3,4% по сравнению с предыдущим годом и в 2025 г. продолжат рост. Главные драйверы продаж – ажиотаж вокруг генеративных моделей ИИ и санкции США против ИТ-отрасли Китая, что вынуждает КНР развивать собственное производство.

Сообщение Полупроводниковое оборудование: спрос растет появились сначала на Byte/RE.

Тайваньская TSMC развивает новый метод изготовления чипов, в котором вместо обычных круглых пластин-заготовок используются прямоугольные. Круглые пластины, в особенности крупные, по мере миниатюризации технологического процесса создают инженерам все больше проблем, из-за которых снижается процент выхода годных чипов с пластины.

Сообщение Круг? Прямоугольник! появились сначала на Byte/RE.

Китайский чипмейкер SMIC готов к массовому производству микросхем по технологическим нормам 5 нм – на доработанном DUV-оборудовании, без фотолитографических машин новейшего поколения EUV, которые выпускаются исключительно голландской ASML и запрещены к импорту в материковый Китай.

Сообщение Китай осваивает 5-нм техпроцесс без EUV появились сначала на Byte/RE.

Разработчик наноимпринтной технологии компания Canon начинает серийный выпуск литографических машин – альтернативных изделиям голландской ASML – с фактическим разрешением 14 нм, что соответствует фотолитографическому процессу 5 нм.

Сообщение Еще один подход к полупроводниковой литографии – наноимпринтный появились сначала на Byte/RE.

В условиях, когда поставки современных фотолитографических машин в КНР фактически запрещены, в стране активизировались разработки новых способов получения высокоэнергичных фотонов для полупроводниковой фотолитографии, включая использование специализированного синхротрона.

Сообщение Синхротрон вместо литографа: Китай поставит на SSMB? появились сначала на Byte/RE.