Разработка фоторезистов в «Технополис Москва»

По сообщению Департамента инвестиционной и промышленной политики Москвы, научно-исследовательский институт молекулярной электроники (НИИМЭ), имеющий статус резидента особой экономической зоны (ОЭЗ) «Технополис Москва», приступил к разработке фоторезистов – литографических материалов, которые применяются в электронной промышленности.

Фоторезист – светочувствительный полимерный материал, который наносят на кремниевую пластину в процессе фотолитографии, с его помощью на поверхности обрабатываемой детали формируются выделенные участки для дальнейшего травления или легирования поверхности. Это основная технология в производстве интегральных микросхем.

Компания проведет теоретические и экспериментальные работы, разработает документацию технологического процесса, методики измерений параметров материалов и метрологической экспертизы. Ожидается, что потребителями ее продукции станут российские производители микроэлектроники, в том числе резиденты «Технополис Москва» (более 50% всей продукции, выпускаемой в ОЭЗ, производится в сфере микроэлектроники).

У института есть большой опыт исследований в области высокочистых материалов. В консорциуме с институтами Российской академии наук по программе импортозамещения НИИМЭ занимается разработками и анализом высокочистых химических реактивов для отечественной промышленности. За последние пять лет были сформированы технологические цепочки исполнителей из научных организаций и организовано проведение работ по созданию задела для разработки материалов для фотолитографии, а в 2021 г. создана единственная в России физико-химическая аналитическая лаборатория мирового уровня для проведения исследований в области контроля качества технологических сред.