Китайское микропроцессорное машиностроение набирает обороты

Изготавливать современные микросхемы – дело само по себе непростое. Но создавать машины, способные выпускать эти чипы, – задача еще более трудная. Узкий рынок сбыта для оборудования такого рода и необходимость вкладывать огромные суммы в его непрерывную модернизацию (по мере того как чипмейкеры осваивают все более миниатюрные технологические процессы) привели к тому, что аппаратуру для микропроцессорных производств в мире создает лишь очень ограниченный круг компаний – в основном из США, Японии и Голландии. Да и то опираются эти производители на весьма широкую международную кооперацию: скажем, голландской ASML для выпуска передовых фотолитографов необходимы поставки узлов генерации EUV-излучения от базирующейся в Калифорнии компании Cymer, оптических элементов от германской Zeiss SMT, эксимерных лазеров для изготовления фотомасок от японской Toshiba и т. д.

Такое положение дел еще более усложняет задачу, поставленную правительством КНР перед местными промышленниками: к 2027 г. локализовать выпуск не менее 70% чипмейкерского оборудования, необходимого для изготовления микросхем по зрелым технологическим нормам (условно «28 нм» и менее). Перечень такого оборудования обширен: помимо собственно фотолитографов, он включает агрегаты для формирования кремниевых пластин-заготовок, контрольно-измерительную аппаратуру, даже программное обеспечение для автоматизированного дизайна микросхем и целый ряд химических материалов высокой чистоты (точнее, технологические циклы их получения и очистки). Когда несколько лет назад планы достигнуть 70%-ного рубежа локализации в этой отрасли были обнародованы, эксперты за пределами КНР восприняли их весьма скептически.

Тем не менее, в материковом Китае фиксируется уверенный прогресс по части создания средств микропроцессорного производства. Как сообщает японское издание Newsswitch, в последние годы именно КНР активнее прочих инвестирует в полупроводниковую промышленность – и уже переходит к локализации критически важных технологий при деятельной поддержке правительства. Сегодня китайские чипмейкеры уже обязаны закупать более 50% оборудования внутри страны, что делает намеченную на 2027 г. цель в 70% вполне достижимой. В частности, иммерсионные фотолитографы компании SMEE для техпроцесса «28 нм» проходят предсерийные испытания, а травильные машины разработки NAURA Technology Group, также ориентированные на норму«28-нм», уже запущены в серию.

Более того, китайская компания AMEC, по данным источников издания, верифицирует в настоящее время свое «14-нм» оборудование, предназначенное для ведущего локального чипмейкера Поднебесной – SMIC. Эксперты Reuters отмечают, что в КНР уже изготовлен прототип литографической установки EUV (техпроцессы «5 нм» и менее), который позволит начать выпуск функциональных чипов, по оптимистичной оценке, в 2028 г., а по реалистичной – не позднее 2030-го. Опираясь на обратный инжиниринг доступных производственных систем и на достижения своей весьма основательной инженерной школы, КНР, как указывают исследователи, продвигается по пути локализации производств микропроцессорных средств производства завидными темпами. Чему, как ни парадоксально, вводимые США санкции только способствуют – поскольку не оставляют правительству страны выбора и заставляют не считаться с затратами, обеспечивая столь необходимый в современных реалиях суверенитет в области электроники.