Разработка установки для печати микрочипов в «Технополис Москва»

По сообщению Департамента инвестиционной и промышленной политики Москвы, резиденты особой экономической зоны «Технополис Москва» и ученые Национального исследовательского университета МИЭТ ведут исследования для создания установки, которая позволит печатать микросхемы размером 28 нм и ниже, востребованным в современной микроэлектронике.

Резиденты ОЭЗ Москвы участвуют в проекте по созданию технологии и разработке установки-литографа для производства микросхем. Работы по проекту проходят на базе НИУ МИЭТ. Производственные мощности кластера микроэлектроники столичной ОЭЗ будут задействованы для изготовления необходимых проекту образцов. Как отмечают в МИЭТ, если работа завершится успешно, за ней последует опытно-конструкторский проект по созданию литографической установки.

Установку можно будет использовать для производства чипов 28 нм и ниже на базе российских синхротронов и плазменных источников излучения. Ученые МИЭТ в кооперации с резидентами ОЭЗ Москвы изучают возможность реализации технологии.