В Китае готовы к EUV?
Отставание китайских производителей в полупроводниковой отрасли связано с тем, что из-за санкций они не могут применять EUV-литографы (излучение с длиной волны 13,5 нм) от ASML, на которых выпускаются чипы по нормам «7 нм» и менее. Но…