Китай осваивает 5-нм техпроцесс без EUV
Китайский чипмейкер SMIC готов к массовому производству микросхем по технологическим нормам 5 нм – на доработанном DUV-оборудовании, без фотолитографических машин новейшего поколения EUV, которые выпускаются исключительно голландской ASML и запрещены к импорту в материковый Китай.
Как сообщает портал Wccftech со ссылкой на южнокорейские источники в микропроцессорной индустрии, ведущий чипмейкер материкового Китая компания SMIC готова к массовому производству микросхем по 5-нм технологическим нормам.
Важно, что базирующиеся вне КНР производители чипов, такие как тайваньская TSMC или южнокорейская Samsung Electronics, освоили этот процесс уже несколько лет назад – но с использованием новейших фотолитографических машин EUV, которые производит лишь одна компания в мире, голландская ASML. А экспорт EUV-машин в материковый Китай, как известно, запрещен в связи с американскими торговыми ограничениями (компания SMIC внесена в «черный список» Минторга США).
Чипмейкер из КНР, однако, добился выхода на 5-нм рубеж, применяя лишь доступное ему литографическое оборудование предыдущего поколения, DUV, для которого прежде абсолютным нижним пределом считалась 7-нм технологическая норма.
Первым заказчиком 5-нм чипов SMIC станет, как сообщается, китайский же ИТ-гигант Huawei: вполне вероятно, что системами-на-кристалле Kirin нового поколения, изготовленными как раз по этим новоосвоенным производственным нормам, будут оснащаться флагманские смартфоны семейства Mate 70, выход которых на рынок намечен в октябре текущего года. Источники Wccftech не сообщают об эффективности 5-нм техпроцесса в SMIC (доле пригодных к использованию микросхем от общего числа литографированных на одной пластине-заготовке), однако указывают, что себестоимость выпускаемых на доработанном DUV-оборудовании чипов оказывается примерно на 50% выше, чем на исходно предназначенных для столь тонкой работы EUV-литографах.
Тем не менее у китайского чипмейкера нет альтернативного способа освоить более миниатюрные, чем 7 нм, техпроцессы, поскольку EUV-машины недоступны ему из-за торговых ограничений. Ранее Wccftech уже сообщал, что SMIC при поддержке правящих кругов КНР работает и над освоением еще более миниатюрных 3-нм производственных норм, на сегодня самых передовых среди реализуемых на предприятиях TSMC и Samsung Electronics. Однако эта непростая задача потребует нескольких лет упорного труда, учитывая, что и здесь материковым китайцам придется вести разработки исключительно своими силами.